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雙溫對置擺蕩式染樣機
2013年10月08日 來源：
雙溫對置擺蕩式染樣機
XW-BDR系列擺蕩式染樣機，是針對振蕩式染樣機有煩人的振動和噪聲以及壽命短而研制成功的。它應(yīng)用往復(fù)慣性力完全平衡原理，采用對置活塞式發(fā)動機的成熟結(jié)構(gòu)和四連桿平擺機構(gòu)，極限工作速度遠比振蕩機高。它幾乎沒有煩人的振動和噪聲，大大提高勻染性和工作壽命，該機勝任振蕩式染樣機的全部工作，屬于環(huán)保型產(chǎn)品。
主要技術(shù)參數(shù)
1、加熱介質(zhì)：水
2、工作溫度：室溫-98°C
3、杯子容積（ml）：100，250，300
4、杯子數(shù)量：12和24
5、控溫精度：±0.5℃
6、加熱電源：AC380V50Hz
7、控制電源：AC220V50Hz
8、擺蕩速度：無級調(diào)節(jié)≤200次/分
9、可提供500ml，800ml特殊規(guī)格
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