印染節(jié)能與環(huán)保新技術(shù)
眾所周知，染整行業(yè)歷來(lái)是耗能和污染環(huán)境大戶，近些年來(lái)，對(duì)于一些傳統(tǒng)的染整機(jī)械產(chǎn)品，通過(guò)不斷的滾動(dòng)開(kāi)發(fā)，在節(jié)水、節(jié)汽、節(jié)電等方面取得了一定的效果。然而，這畢竟只是一種消極被動(dòng)的手段，只有從染整工藝、化學(xué)助劑、染整設(shè)備等多渠道著手，抓住源頭，以生態(tài)觀念不斷開(kāi)發(fā)新技術(shù)和新設(shè)備，才是積極主動(dòng)的上策。為此，許多具有前瞻性、創(chuàng)新性和實(shí)用性的新工藝和新設(shè)備不斷涌現(xiàn)。現(xiàn)擇幾種較有影響的作一簡(jiǎn)單介紹。 低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于退漿和表面改性 近年來(lái)，等離子體技術(shù)在染整工藝中的應(yīng)用日益引人矚目。它的主要特點(diǎn)是，等離子體處理屬于固體與氣體之間的直接反應(yīng)，是一種不需要水、化學(xué)品的干式加工，可以大幅度節(jié)水、節(jié)能、減少環(huán)境污染。選擇合適的等離子體處理所用的氣體種類及處理?xiàng)l件，對(duì)織物表面進(jìn)行物理刻蝕，可以改變織物的表面特性，如親水性、表面粗糙度等。 意大利Mezzera（梅澤拉）公司研制推出的KPR型工業(yè)等離子體處理設(shè)備已進(jìn)入中試生產(chǎn)階段，應(yīng)用于織物的前處理退漿，可有效地切斷織物上漿料的分子鏈，使?jié){料容易洗去，不僅提高了織物的上染率和色牢度，且可大大縮短前處理水洗設(shè)備的流程，減少?gòu)U液的排放。 納米技術(shù)應(yīng)用于涂料印花 近年來(lái)，納米技術(shù)逐漸走進(jìn)傳統(tǒng)的染整行業(yè)，對(duì)染整的清潔生產(chǎn)和高附加值產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)產(chǎn)生了重大影響。以涂料印花為例，因其工藝簡(jiǎn)單、仿色準(zhǔn)確、無(wú)須水洗、符合環(huán)保要求而在染整行業(yè)廣泛應(yīng)用，此類產(chǎn)品在國(guó)外的比重已超過(guò)了50％。然而，涂料印花也存在花紋清晰度差、色牢度及日曬牢度較低、手感偏硬等缺陷。最近，經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)，在進(jìn)行涂料印花時(shí)，只要添加0.3％納米級(jí)硅基氧化物，即可獲得很好的效果。添加納米材料后，色漿觸變性良好，涂料色漿透網(wǎng)性和印制花紋清晰度明顯改善；膜的強(qiáng)度、彈性、耐磨性和耐水性增加，從而提高了相關(guān)的色牢度。由于納米級(jí)硅基氧化物對(duì)400nm以內(nèi)的紫外線反射率為8
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