光催化氧化技術(shù)對高濃度廢水處理效果不太理想.光催化氧化工藝與混凝、生物處理相結(jié)合處理染料廢水則優(yōu)劣互補(bǔ).趙玉光等[24]提出以間歇延時(shí)曝氣與光催化氧化串聯(lián)工藝處理模擬染料廢水,取了較好效果.李芳柏等[25]用混凝-光催化氧化工藝處理染料廢水,COD、BOD 去除率分別達(dá)到 90.1%和 93.7%,在光催化氧化過程中加入 H2O2效果更好.
目前,光催化氧化技術(shù)處理染料廢水在工業(yè)化應(yīng)用中仍受到一定的制約.主要問題是光源的利用效率、催化劑的利用、光生電子和空穴的利用、傳質(zhì)、反應(yīng)器的設(shè)計(jì)等.試驗(yàn)室階段使用的光源多是人工光源如紫外光,即使在空氣中傳播也會損失很大,因而如何提高光源的利用率是光催化技術(shù)得以廣泛應(yīng)用的前提條件.目前,研究者致力于對太陽光催化進(jìn)行研究.從微觀觀點(diǎn)來看,反應(yīng)過程中的電子空穴直接關(guān)系到羥基數(shù)量的多少以及污染物被降解的程度,如何減少電子空穴的復(fù)合是保證光催化有效進(jìn)行的關(guān)鍵.目前的研究主要從催化劑的改性、復(fù)合催化劑和外加電場等方面進(jìn)行解決.劉小玲等[26]已經(jīng)開始研究太陽光照射下,以納米 Cu2O 為催化劑處理印染廢水.相信這些技術(shù)的突破性研究將使光催化氧化法處理印染廢水的工業(yè)化處理成為可能.
4 超臨界水氧化法
超臨界水氧化(SCWO)是指在溫度、壓力高于水的臨界溫度(374 ℃)和臨界壓力(22.1 MPa)條件下水中有機(jī)物的氧化.超臨界水氧化法是 1982 年由美國學(xué)者 Modell[27]提出的一種能夠徹底破壞有機(jī)物結(jié)構(gòu)的新型氧化技術(shù).近年來,很多發(fā)達(dá)國家已應(yīng)用該項(xiàng)技術(shù)進(jìn)行難降解有機(jī)物的治理.龔為進(jìn)[28]全面介紹了超臨界水氧化法治理難降解染料廢水的可能性.林春綿等[29]采用超臨界水氧化法降解染料中間體,在一定范圍內(nèi)升高氧化降解的溫度,增加初始廢水的濃度以及延長接觸時(shí)間都可以增加 COD 去除率,最高可達(dá)99.7%.馬承愚等[30]利用超臨界水氧化法處理偶氮染料廢水,壓力為 28 MPa、520 ℃氧化反應(yīng) 180 s 和 240s時(shí),其 COD 去除率分別達(dá) 98.37%和 99.09%,在后者條件下的色度去除率為99.67%,使高濃度難降解印染廢水處理達(dá)到國家排放標(biāo)準(zhǔn).龔為進(jìn)等[31]研究了超臨界水對活性染料廢水的處理效果,COD 和色度去除率分別達(dá)到 98.4%和 99.9%,而且反應(yīng)時(shí)間短.
與其他傳統(tǒng)方法相比,超臨界水氧化技術(shù)具有處理效率高、有毒物質(zhì)去除率高、氧化徹底、反應(yīng)器結(jié)構(gòu)簡單、適用范圍廣以及不產(chǎn)生二次污染等特點(diǎn),但也存在一些問題,如超臨界氧化需要較高的溫度和壓力,在反應(yīng)過程中對普通耐腐蝕金屬有很強(qiáng)的腐蝕性,對反應(yīng)設(shè)備材質(zhì)要求過高以及存在無機(jī)鹽對反應(yīng)器和管路的堵塞等問題;對于某些化學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的物質(zhì),反應(yīng)時(shí)間較長;另外,超臨界水氧化技術(shù)的運(yùn)行費(fèi)用也較高.超臨界水氧化法已經(jīng)在工業(yè)廢水處理上顯示出勃勃生機(jī),相信隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,該技術(shù)也會在染料廢水處理中得到廣泛應(yīng)用.
5電化學(xué)氧化法
電化學(xué)氧化技術(shù)是指在外加電場作用下,在特定的電化學(xué)反應(yīng)器內(nèi),通過一定化學(xué)反應(yīng)、電化學(xué)過程或物理過程,產(chǎn)生大量的自由基,利用自由基的強(qiáng)氧化性對廢水中的污染物進(jìn)行降解的過程.電化學(xué)技術(shù)具有易控制、無污染或少污染、高度靈活等特點(diǎn).[32]
<<上一頁[1][2][3][4][5]下一頁>>
相關(guān)信息 
推薦企業(yè) 推薦企業(yè)
推薦企業(yè)
編.gif)
您所在的位置：
